曝光機是指通過開啟燈光發(fā)出UVA波長的紫外線，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到涂有感光物質的表面上的設備。被廣泛用于半導體，微電子，生物器件和納米科技領域中?，F(xiàn)在LED曝光機已開始取代傳統(tǒng)曝光機，LED曝光機相比于傳統(tǒng)曝光機的優(yōu)勢有哪些呢？

1、光線平行度：采用精密聚光和分光透鏡，平行光線角度控制在10度內，無漫射和大角度反射光和透過光線。優(yōu)勢:阻焊成像解析度高，能做精密的BGA,阻焊橋等產品。

2、曝光臺面光強均勻度：光強分布非常均勻，臺面整體光強均勻度超過90%以上，臺面區(qū)間100%可用。優(yōu)勢：臺面任意區(qū)間都可曝光產品，產品四角和中間品質一致性100%。

3、光強穩(wěn)定性：光源穩(wěn)定，使用壽命達到20000小時，光強變化極其微小，成像穩(wěn)定性不會出現(xiàn)周期性波動。優(yōu)勢：減少配件更換，降低維護成本。

4、阻焊成像精度高，近平行光曝光，能量尺控制在10-12格，可以深度固化，阻焊顯影無側蝕，顯影后阻焊開窗口垂直。優(yōu)勢：阻焊顯影無側蝕，表面處理如沉金、鍍金、沉錫、噴錫等無滲鍍、甩油等，合格率提高。

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